YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
标准编号：YS/T 719-2009>
标准名称：平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶
语 言：简体中文版、英文版
发布日期：2009-12-04 实施日期：2010-06-01
标准状态：现行
批准发布部门：工业和信息化部
起草单位：利达光电股份有限公司 起草人：李智超、杨太礼 等
标准介绍：【YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶】
标准类别：YSyj有色冶金标准
授权方式：免费下载
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添加日期：2022-03-15 19:52:29
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更新时间：2022-03-15 19:52:29
