YS/T 1025-2015
现行
标准简介及适用范围
YS/T 1025-2015《电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材》标准规定了电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材必须具备的国家强制标准，2015-10-01开始实施，起草单位为：宁波江丰电子材料股份有限公司、有研亿金新材料有限公司、北京天龙钨钼科技股份有限公司等。
本标准适用于电子薄膜用高纯钨及钨合金溅射靶材，以下简称高纯钨及钨合金靶。
被引用情况
| 标准号 | 标准名称 | 标准状态 | 实施日期 |
|---|---|---|---|
| YS/T 1028.5-2015 | 磷酸铁锂化学分析方法 第5部分：钙、镁、锌、铜、铅、铬、钠、铝、镍、钴、锰量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2015-10-01 |
| YS/T 1043-2015 | 电机整流子用银无氧铜带材 | 现行 | 2015-10-01 |
| YS/T 1047.6-2015 | 铜磁铁矿化学分析方法 第6部分：铜、全铁、二氧化硅、三氧化铝、氧化钙、氧化镁、二氧化钛、氧化锰和磷量的测定 波长色散X射线荧光光谱法 | 现行 | 2015-10-01 |
| YS/T 499-2015 | 雾化铜粉 | 现行 | 2015-10-01 |
| YS/T 1047.10-2015 | 铜磁铁矿化学分析方法 第10部分：氧化亚铁量的测定 重铬酸钾滴定法 | 现行 | 2015-10-01 |
| YS/T 357-2015 | 乙硫氨酯 | 现行 | 2015-10-01 |
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