YS/T 935-2013
现行
标准简介及适用范围
YS/T 935-2013《电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南》标准规定了电子薄膜用高纯金属溅射靶材纯度等级及杂质含量分析和报告标准指南必须具备的国家强制标准，2014-03-01开始实施，起草单位为：有研亿金新材料股份有限公司。
被引用情况
| 标准号 | 标准名称 | 标准状态 | 实施日期 |
|---|---|---|---|
| YS/T 890-2013 | 粉末冶金用再生钴粉 | 废止 | 2014-03-01 |
| YS/T 782.5-2013 | 铝及铝合金板、带、箔行业清洁生产水平评价技术要求 第5部分：亲水铝箔 | 现行 | 2014-03-01 |
| YS/T 944-2013 | 银二氧化锡／铜及铜合金复合板材 | 现行 | 2014-03-01 |
| YS/T 945-2013 | 钽铌精矿单位产品能源消耗限额 | 现行 | 2014-03-01 |
| YS/T 928.4-2013 | 镍、钴、锰三元素氢氧化物化学分析方法 第4部分：铁、钙、镁、铜、锌、硅、铝、钠量的测定 电感耦合等离子体原子发射光谱法 | 现行 | 2014-03-01 |
| YS/T 936-2013 | 集成电路器件用镍钒合金靶材 | 现行 | 2014-03-01 |
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