YS/T 819-2012
现行
标准简介及适用范围
YS/T 819-2012《电子薄膜用高纯铜溅射靶材》标准规定了电子薄膜用高纯铜溅射靶材必须具备的国家强制标准，2013-03-01开始实施，起草单位为：宁波江丰电子材料有限公司、有研亿金新材料股份有限公司。
被引用情况
| 标准号 | 标准名称 | 标准状态 | 实施日期 |
|---|---|---|---|
| YS/T 820.20-2012 | 红土镍矿化学分析方法 第20部分：铝量的测定 EDTA滴定法 | 现行 | 2013-03-01 |
| YS/T 828-2012 | 土壤及淡水环境阴极保护用钛阳极 | 废止 | 2013-03-01 |
| YS/T 824-2012 | 钛合金用铝锡中间合金 | 现行 | 2013-03-01 |
| YS/T 829-2012 | 电池级锂硅合金 | 现行 | 2013-03-01 |
| YS/T 825-2012 | 钛酸锂 | 现行 | 2013-03-01 |
| YS/T 807.1-2012 | 铝中间合金化学分析方法 第1部分：铁含量的测定 重铬酸钾滴定法 | 现行 | 2013-03-01 |
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