YS/T 718-2009
现行
标准简介及适用范围
YS/T 718-2009《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶》标准规定了平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶必须具备的国家强制标准，2010-06-01开始实施，起草单位为：利达光电股份有限公司。
被引用情况
| 标准号 | 标准名称 | 标准状态 | 实施日期 |
|---|---|---|---|
| YS/T 556.5-2009 | 锑精矿化学分析方法 第5部分：锌量的测定 火焰原子吸收光谱法 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 720-2009 | 烧结镍片 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 539.11-2009 | 镍基合金粉化学分析方法 第11部分：钨量的测定 辛可宁称量法 | 废止 | 2010-06-01 |
| YS/T 539.7-2009 | 镍基合金粉化学分析方法 第7部分：钴量的测定 亚硝基R盐分光光度法 | 废止 | 2010-06-01 |
| YS/T 226.2-2009 | 硒化学分析方法 第2部分：锑量的测定 氢化物发生-原子荧光光谱法 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 521.3-2009 | 粗铜化学分析方法 第3部分：砷量的测定 方法1 氢化物发生-原子荧光光谱法 方法2 溴酸钾滴定法 | 现行 | 2010-06-01 |
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