YS/T 719-2009
现行
标准简介及适用范围
YS/T 719-2009《平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶》标准规定了平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶必须具备的国家强制标准，2010-06-01开始实施，起草单位为：利达光电股份有限公司。
被引用情况
| 标准号 | 标准名称 | 标准状态 | 实施日期 |
|---|---|---|---|
| YS/T 555.6-2009 | 钼精矿化学分析方法 铜、铅、铋、锌量的测定 火焰原子吸收光谱法 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 702-2009 | X射线荧光光谱法测定氢氧化铝中SiO2、Fe2O3、Na2O含量 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 257-2009 | 铟锭 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 715.4-2009 | 二氧化硒化学分析方法 第4部分：灼烧残渣的测定 重量法 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 536.1-2009 | 铋化学分析方法 铜量的测定 双乙醛草酰二腙分光光度法 | 现行 | 2010-06-01 |
| YS/T 437-2009 | 铝合金型材截面几何参数算法及计算机程序要求 | 废止 | 2010-06-01 |
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