SJ/T 11498-2015
现行
标准简介及适用范围
SJ/T 11498-2015《重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法》标准规定了重掺硅衬底中氧浓度的二次离子质谱测量方法必须具备的国家强制标准，2015-10-01开始实施，起草单位为：信息产业专用材料质量监督检验中心、工业和信息化部电子工业标准化研究院、苏州晶瑞化学有限公司等。
被引用情况
| 标准号 | 标准名称 | 标准状态 | 实施日期 |
|---|---|---|---|
| SJ/T 11508-2015 | 集成电路用 正胶显影液 | 现行 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11529-2015 | 服装制造生产线射频识别系统通用规范 | 现行 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11510-2015 | 液晶显示器用 铝腐蚀液 | 现行 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11526-2015 | 信息技术 SCSI基于对象的存储设备命令 | 现行 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11513-2015 | 太阳电池用铝浆 | 现行 | 2015-10-01 |
| SJ/T 11310.5-2015 | 信息设备资源共享协同服务 第5部分：设备类型 | 现行 | 2015-10-01 |
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