GB/T 4058-2009
现行
标准号 GB/T 4058-2009
标准名称 硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法
英文名称 Test method for detection of oxidation induced defects in polished silicon wafers
发布日期 2009-10-30
实施日期 2010-06-01
标准状态 现行
归口单位 全国半导体设备和材料标准化技术委员会
主管单位 国家标准委
标准类别 方法
国际标准分类号 29.045
中国标准分类号 H80
起草单位 峨嵋半导体材料厂
起草人 何兰英 、王炎 、张辉坚 、刘阳
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标准简介

GB/T 4058-2009《硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法》标准规定了硅抛光片氧化诱生缺陷的检验方法必须具备的国家强制标准,2010-06-01开始实施,起草单位为:峨嵋半导体材料厂。

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